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据科创板日报，比利时微电子研究中心(imec)与阿斯麦(ASML)今日宣布，双方已签署备忘录加强合作，共同开发最先进high-NA极紫外光(EUV)微影试验制程。双方指出，该试验制程的目标是协助采用半导体技术的所有产业，并提供一套能在未来支援创新的原型设计平台。(格隆汇)